【分会场四】攻坚“卡脖子”难题：电子化学品前沿技术吹响国产化集结号

本分会由上海市计量测试技术研究院有限公司李杰教授级高工及上海集成电路材料研究院李春华副总经理共同主持。

华东理工大学许振良教授以《电子信息材料-光刻胶树脂单体及其配套材料应用与现状》为题，报告阐明超净高纯电子化学品的战略地位，指出国内高端光刻胶存在等级与稳定性不足的瓶颈。提出通过开发高效分离材料、创新膜工艺及模块化技术，结合工程案例推动产业化，助力产业链自主可控与升级发展。

中国计量科学研究院全灿研究员以《电子化学品标准化现状及展望》为题，系统阐明电子化学品的战略地位及国产化必要性，通过分析市场格局与标准体系，研制电子级溶剂、高纯硅等标准物质，构建量值溯源技术体系，为我国电子化学品质量统一与产业自主可控提供关键技术支撑。

上海集成电路材料研究院李春华副总经理以《电子级试剂的质量评价方案》为题，报告阐明电子级试剂在半导体等产业中的关键地位与超高纯度要求，剖析金属杂质、颗粒控制等核心参数及对应检测方法，通过整合标准与数据构建实用化质量评价体系，为产品开发与生产提供关键技术依据。

上海市计量测试技术研究院有限公司常燕工程师以《电子化学品无机杂质超痕量检测方法研究及质量保障体系建设》为题，面向半导体先进制程需求，本研究构建无机杂质超痕量检测体系，基于高分辨ICP-MS与在线离子色谱技术实现湿电子化学品等关键材料中金属/阴离子精准检测，建立全流程质量体系，并成功应用于国产电子化学品质量评价与供应商认证，为产业国产化提供关键技术支撑。

中石化(上海)石油化工研究院有限公司许竞早副研究员以《离子色谱在集成电路领域应用进展》为题，系统阐述了离子色谱技术在集成电路阴离子污染控制中的关键作用，综述离子色谱在超纯水、无机酸碱、高纯试剂、洁净室气体及晶圆表面分析等领域的应用，重点探讨其与多种检测器联用技术及发展方向。凭借高精度高灵敏度特点，该技术将持续为半导体污染控制提供关键支撑，成为保障集成电路质量的核心分析手段。

湖北三峡实验室曾远研究员以《三种ICP-MS联用技术在高纯电子化学品痕量杂质检测中的应用研究》为题，报告系统阐述了集成电路制造向纳米级发展过程中面临的痕量杂质控制挑战，重点介绍了VPD-ICP-MS用于晶圆表面分析、seaFAST处理高基体样品、GC-ICP-MS检测电子特气中特定杂质等关键技术方案，为电子化学品材料的痕量杂质检测提供了系统解决方法。

上海市计量测试技术研究院有限公司魏王慧高工以《电子气体中超痕量气态污染物的测定分子酸碱和挥发性有机物》为题，报告阐明电子气体在集成电路制造中的关键地位，指出超痕量气态污染物（分子酸碱、VOCs）是当前质量控制重点。针对检测技术难点提出完整解决方案，为提升电子气体纯度控制水平提供重要技术支撑。

骇思仪器科技(上海)有限公司张磊总经理以《集成电路实验用水国标解读及发展新方向》为题，报告重点解读集成电路用超纯水标准及技术发展：分析GB/T 11446.1-2013关键指标，对比相关标准差异；介绍创新纯化工艺对PPT级污染物的控制方案，展望智能化系统前景；通过骇思®系列产品案例展示国产设备技术突破，呈现从标准到技术的系统化进展。